正外延检测是一种用于研究材料晶体生长模式和表面特性的方法，主要通过测量晶体的表面电阻、电容、光学特性等来分析晶体的质量和结构。
常用的正外延检测方法包括：
1. 表面电阻测试：使用四探针电阻测试仪对晶体表面进行电阻测量，可评估晶体的电性能。
2. 表面电容测试：用LCR测试仪测量晶体表面的电容值，通过计算电容值可以得到晶体的介电常数等电学性质。
3. 反射率测试：使用反射光谱仪对晶体的光反射率进行测量，可以了解晶体的光学特性，如能带结构等。
4. 光致发光测试：利用光致发光光谱仪对晶体进行激发，测量其发光谱线，可评估晶体的发光性能和能态结构。
5. X射线衍射测试：通过衍射仪测量晶体的X射线衍射谱线，可以分析晶体的晶格结构、晶向等信息。
总体来说，正外延检测方法主要通过电学、光学和结构分析等手段对晶体进行综合评估，以获得关于晶体质量和性能的信息。
