正型光刻胶检测是对正型光刻胶进行物理和化学性能测试的过程，以确保其质量和适用性。
敏感度测试：通过曝光正型光刻胶，并使用显微镜或其他仪器观察其曝光结果，以确定其最小曝光剂量。
显影性能测试：测量正型光刻胶对显影剂的反应性能，如显影速率和显影等效性。
粘度测定：通过转子或圆盘型粘度计测量正型光刻胶的流动性，以确定其黏稠度。
溶解度测试：在不同溶剂中浸泡正型光刻胶，并测量其溶解度，以评估其溶解特性。
干膜厚度测量：使用表面轮廓仪、薄膜测量仪或显微镜等仪器测量正型光刻胶的干膜厚度。
耐蚀性测试：将正型光刻胶暴露在酸性或碱性溶液中，并评估其耐蚀性能。
曝光能量分布测试：使用曝光参数测试仪器测量正型光刻胶在曝光过程中的光能分布情况。
解解性测试：将正型光刻胶暴露在紫外光下，并测量其在特定条件下的解解性能。
粘附性能测试：评估正型光刻胶在不同基材上的粘附度，如金属、玻璃或硅片。
热稳定性测试：通过加热正型光刻胶样品并观察其变化，在不同温度下评估其热稳定性。
聚合度测试：使用凝胶渗透色谱仪等仪器，测定正型光刻胶分子的聚合度。
黏度温度特性测试：测量正型光刻胶在不同温度下的黏度变化，以评估其黏度-温度特性。
老化性能测试：将正型光刻胶样品暴露在高温、湿度或光照下，并评估其老化性能。
化学抗性测试：检验正型光刻胶对各种化学物质的抵抗能力。
表面张力测量：使用表面张力仪测量正型光刻胶的表面张力，以评估其涂覆性能。
膜张力测试：评估正型光刻胶薄膜的张力，如拉伸应力和剪切应力等。
光学透过率测试：使用透光度仪等仪器测量正型光刻胶的光学透过率。
残留溶剂含量测试：测量正型光刻胶中残留溶剂的含量。
电流-电压特性测试：评估正型光刻胶在电场中的电性能。
纹理测量：使用光学显微镜或扫描电镜等仪器观察正型光刻胶的表面纹理。
退火温度测试：通过加热正型光刻胶样品并观察其变化，在不同温度下评估其退火特性。
电解沉积性能测试：评估正型光刻胶在电解沉积过程中的性能，如电解层的均匀性和附着力等。
腐蚀性测试：将正型光刻胶暴露在腐蚀性介质中，并评估其腐蚀性能。
红外光谱分析：使用红外光谱仪对正型光刻胶进行分析，以确定其组分。
电子显微镜观察：使用电子显微镜观察正型光刻胶的表面形貌和微观结构。
磁力学性能测试：测量正型光刻胶的磁学性能，如磁化强度和磁滞回线等。
热膨胀系数测试：测量正型光刻胶的热膨胀系数，以评估其尺寸稳定性。
毛细管流动测试：使用毛细管流动法测定正型光刻胶的流动性，以评估其涂覆性能。
界面能测试：测量正型光刻胶与基材之间的界面能，并评估其粘附性。
机械性能测试：评估正型光刻胶的强度、硬度和弹性模量等机械性能。
附着力测试：使用粘着力测试仪测量正型光刻胶的附着力，以评估其粘附性。
