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掩膜版设备检测

检测项目

1.线宽精度:测量图形边缘分辨率偏差值,允许公差0.1μm(@1X掩膜版)

2.透光率:紫外波段(365nm)透射率≥95%,局部波动≤1.5%

3.缺陷密度:采用0.13μm灵敏度扫描仪检测,Class10级掩膜版缺陷数≤0.01个/cm

4.热膨胀系数:温度循环(20-80℃)下尺寸稳定性≤0.5ppm/℃

5.表面粗糙度:原子力显微镜(AFM)测试Ra≤0.5nm

检测范围

1.石英基板掩膜版:适用于DUV光刻工艺的硬质透明基材

2.铬膜掩膜版:金属镀层图形化产品(Cr厚度80-120nm)

3.乳胶掩膜版:低成本PCB制程用有机感光材料

4.柔性聚合物掩膜版:卷对卷工艺用PET/PEN基材

5.相位偏移掩膜版(PSM):含MoSiON多层结构的先进制程产品

检测方法

1.ASTMF1526-2021:透射/反射光谱法测定光学特性

2.ISO14645:2020:激光干涉仪线宽测量标准流程

3.GB/T16594-2008:原子力显微镜表面形貌测试规范

4.SEMIP35-1109:半导体用掩膜版缺陷分类标准

5.GB/T29732-2013:石英玻璃热膨胀系数测试方法

检测设备

1.KLA-TencorP16+:0.13μm分辨率激光缺陷扫描系统

2.ZygoNewView9000:白光干涉三维形貌分析仪

3.HitachiCG4100:临界尺寸扫描电镜(CD-SEM)

4.BrukerDimensionIcon:原子力显微镜(AFM)

5.ThermoScientificiCAPRQ:ICP-MS金属杂质分析仪

6.AgilentCary7000:全波段分光光度计

7.NikonMM-400T:自动影像测量系统(精度0.25μm)

8.NetzschDIL402Expedis:热膨胀系数测试仪

9.VeecoNT9100:非接触式表面粗糙度测量仪

10.LasertecMPM300:多波长相位测量系统

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

掩膜版设备检测
其他检测

中析研究所可进行各种检测分析服务,包括不限于:标准试验,非标检测,分析测试,认证设计,产品验收,质量内控,矢量分析,内部控制,司法鉴定等。可出具合法合规、具有公信力的第三方检测报告。