光刻胶厚度测量仪器: 光刻胶厚度测量仪器用于测量正性光刻胶的厚度，常用的仪器有：
1. 表面粗糙度仪：用于测量光刻胶表面的粗糙度，以保证光刻胶在曝光过程中的光线传输质量。
2. 纳米厚度计：用于测量光刻胶的厚度，其测量范围通常在纳米级，能够提供非常精确的测量结果。
3. 换能器：光刻胶换能器用于将压力或电信号转换为机械振动，并传递给请求单元。
4. 厚膜测量仪：用于测量光刻胶的厚度，其采用的原理通常是透射真空紫外光强度和波长与载在光刻胶上的掩膜和基片透射光强度和波长的比值，通过计算得到光刻胶厚度。
