掩膜版设备检测
检测项目
1.线宽精度:测量图形边缘分辨率偏差值,允许公差0.1μm(@1X掩膜版)
2.透光率:紫外波段(365nm)透射率≥95%,局部波动≤1.5%
3.缺陷密度:采用0.13μm灵敏度扫描仪检测,Class10级掩膜版缺陷数≤0.01个/cm
4.热膨胀系数:温度循环(20-80℃)下尺寸稳定性≤0.5ppm/℃
5.表面粗糙度:原子力显微镜(AFM)测试Ra≤0.5nm
检测范围
1.石英基板掩膜版:适用于DUV光刻工艺的硬质透明基材
2.铬膜掩膜版:金属镀层图形化产品(Cr厚度80-120nm)
3.乳胶掩膜版:低成本PCB制程用有机感光材料
4.柔性聚合物掩膜版:卷对卷工艺用PET/PEN基材
5.相位偏移掩膜版(PSM):含MoSiON多层结构的先进制程产品
检测方法
1.ASTMF1526-2021:透射/反射光谱法测定光学特性
2.ISO14645:2020:激光干涉仪线宽测量标准流程
3.GB/T16594-2008:原子力显微镜表面形貌测试规范
4.SEMIP35-1109:半导体用掩膜版缺陷分类标准
5.GB/T29732-2013:石英玻璃热膨胀系数测试方法
检测设备
1.KLA-TencorP16+:0.13μm分辨率激光缺陷扫描系统
2.ZygoNewView9000:白光干涉三维形貌分析仪
3.HitachiCG4100:临界尺寸扫描电镜(CD-SEM)
4.BrukerDimensionIcon:原子力显微镜(AFM)
5.ThermoScientificiCAPRQ:ICP-MS金属杂质分析仪
6.AgilentCary7000:全波段分光光度计
7.NikonMM-400T:自动影像测量系统(精度0.25μm)
8.NetzschDIL402Expedis:热膨胀系数测试仪
9.VeecoNT9100:非接触式表面粗糙度测量仪
10.LasertecMPM300:多波长相位测量系统
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。