无坩埚区熔法检测主要用于半导体材料的制备和分析。
常见的检测对象包括但不限于：
硅：用于制造集成电路和太阳能电池等。
锗：用于制造半导体器件和红外探测器等。
砷化镓：用于制造高频电子器件和激光二极管等。
磷化铟：用于制造高速电子器件和光通信器件等。
其他半导体材料：如锑化铟、碲化镉等。
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中析研究所
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