外延层厚度测量：通过椭偏仪、X射线衍射等方法测量外延层的厚度。
晶体质量评估：使用透射电子显微镜（TEM）或原子力显微镜（AFM）评估晶体缺陷。
X射线衍射（XRD）分析：通过XRD分析外延层的晶体结构和晶格常数。
光致发光（PL）光谱：测量外延层的发光特性，评估载流子的复合效率。
电子束感应电流（EBIC）：用于检测半导体材料中的电活性缺陷。
电容-电压（C-V）特性测试：评估外延层的掺杂浓度和均匀性。
霍尔效应测试：测量载流子浓度和迁移率，了解材料的电子性质。
二次离子质谱（SIMS）：用于分析外延层中的杂质和掺杂元素分布。
傅里叶变换红外光谱（FTIR）：检测外延层中的化学键和分子振动模式。
拉曼光谱：评估外延层的应力状态和晶体结构。
扫描电子显微镜（SEM）：观察外延层的表面形貌和微观结构。
透射电子显微镜（TEM）：用于高分辨率成像，观察外延层的晶体缺陷。
原子力显微镜（AFM）：测量外延层的表面粗糙度和形貌。
电导原子力显微镜（EC-AFM）：用于观察外延层的局部电子性质。
扫描隧道显微镜（STM）：用于观察外延层的表面态和电子结构。
热导率测试：测量外延层的热传导性能。
热重分析（TGA）：评估外延层的热稳定性。
差示扫描量热法（DSC）：测量外延层的热性质，如玻璃化转变温度。
应力-应变测试：评估外延层的机械性能。
纳米压痕测试：测量外延层的硬度和弹性模量。
化学机械抛光（CMP）：用于外延层的表面平坦化处理。
湿法刻蚀测试：评估外延层对特定化学溶液的抗蚀性。
干法刻蚀测试：评估外延层在等离子体刻蚀中的选择性和均匀性。
离子注入测试：评估外延层在离子注入过程中的损伤和掺杂效果。
快速热退火（RTA）测试：评估外延层在快速热处理后的晶体质量和电学性质。
金属有机化学气相沉积（MOCVD）测试：评估外延层的生长速率和质量。
分子束外延（MBE）测试：评估外延层的生长控制和均匀性。
外延缺陷密度测试：通过各种表征技术评估外延层的缺陷密度。
载流子寿命测试：通过时间分辨光谱等方法测量外延层中载流子的寿命。
