透射电子像检测是一种用于材料微观结构分析的技术，通过电子束穿透样品并形成图像来获取信息。
样品制备：包括切片、减薄等步骤，以确保样品适合电子束穿透。
电子束加速电压调整：根据样品特性选择合适的加速电压。
图像对比度调节：优化图像的对比度，使结构清晰可见。
分辨率评估：确定图像的分辨率，以分辨微观结构细节。
晶体结构分析：通过衍射图案分析晶体结构。
缺陷检测：观察材料中的缺陷，如位错、晶界等。
相分析：识别不同的相组成。
化学成分分析：结合能谱仪等进行元素分析。
纳米结构观察：研究纳米级别的结构特征。
薄膜分析：适用于薄膜材料的结构和性能研究。
界面分析：观察不同材料之间的界面结构。
颗粒分析：对颗粒的大小、形状和分布进行分析。
应变分析：检测材料中的应变分布。
磁性材料分析：研究磁性材料的微观结构和性能。
半导体材料分析：分析半导体器件的结构和性能。
生物材料分析：用于生物组织和细胞的研究。
环境样品分析：检测环境中的微小颗粒和污染物。
催化剂分析：研究催化剂的微观结构和活性。
材料老化分析：观察材料在使用过程中的结构变化。
复合材料分析：分析复合材料的界面和相分布。
材料失效分析：确定材料失效的原因和机制。
原位观察：实时观察材料在特定条件下的变化。
三维重构：通过系列图像重建三维结构。
图像处理和分析：对获取的图像进行处理和分析。
数据存储和管理：妥善保存检测数据。
检测报告生成：提供详细的检测报告。
