投影光刻机检测主要应用于半导体制造、集成电路制造等领域，用于检测投影光刻机的性能和精度。
常见的投影光刻机检测对象包括但不限于：
光刻机镜头：检测镜头的分辨率、焦距、像差等参数。
光刻机光源：检测光源的波长、功率、稳定性等参数。
光刻机平台：检测平台的平整度、精度、稳定性等参数。
光刻机控制系统：检测控制系统的精度、稳定性、响应速度等参数。
光刻机掩模：检测掩模的精度、平整度、缺陷等参数。
光刻机晶圆：检测晶圆的平整度、缺陷、对准精度等参数。
光刻机光刻胶：检测光刻胶的厚度、均匀性、感光度等参数。
