X 射线衍射法：用于检测外延层的晶体结构和取向。
原子力显微镜：可以测量外延层的表面形貌和粗糙度。
二次离子质谱：用于分析外延层中的元素组成和杂质分布。
光致发光谱：检测外延层的光学性质和缺陷。
电学测试：如霍尔效应测试，用于评估外延层的电学性能。
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中析研究所
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